對於芯片的先進制程,台積電、Intel、三星都拼得很凶。 在近日舉辦的第52屆設計自動化會議中,台積電設計技術平台副處長Willy Chen又對外詳細介绍了16nm和10nm FinFET工藝的情況並稱,16nm的設計流程早已準備就绪,目前已進入可實際設計芯片的狀態。 而對於10nm,台積電稱,調整了規則檢查和集成成分提取器後,第一款集成四核ARM Cortex-A57的驗證芯片已經送廠生產,這比4月份財務預測的第四季度又有提前,明年風險試產將不會有問題。 對於1Xnm來說,蘋果的A9、驍龍820、麒麟950等手機廠都在爭奪,而NV的Pascal、AMD的Zen也會正式邁進。 據說後年台積電還會祭出7nm(四重曝光技術),比Intel還要快,這回可真是好看了。
接近成品的第一款驗證芯片
以上文章來自http://news.mydrivers.com/1/437/437654.htm
後年要進展到7奈米啊!天啊這會不會太快了點啊!不過若技術上能解決漏電問題,加上四重曝光。這技術無疑的領先Intel及三星,我期待台積電能有此技術也有此能力達成目標。
本文章最後由( 陳誠誼 )於 2015-7-7 22:08 編輯
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